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機械工学事典
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マイクロ・ナノ
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アライメントマーク
フォトマスク
マイクロマニピュレーション
液浸密着露光
現像液
RCA洗浄
DC対向スパッタリング
HMDS処理
MEMS
NEMS
O2アッシング
RIE
目次
XeF$_2$ドライエッチング
イオンミリング法
エキシマ接合
エッチング
エレクトロスピニング
オーネゾルゲ数
サテライト液滴
ステルスダイシング
ステンシルマスク
スプレーコーティング
ソフトリソグラフィー
ダイシング
ダミーウェハ
デジタルマイクロフルイディクス
ドライフィルムレジスト
ナノインプリント
ナノ・マイクロフルイディクス
バイオMEMS
パワーMEMS
フォトニック結晶
フォトリソグラフィー
プラズマ接合
プリベーク
ポストエクスポージャーベーク
マグネトロンスパッタリング
マスクレス露光
メタルアシスト化学エッチング
ヤヌス粒子
ラボオンチップ
リキッドマーブル
リフトオフレジスト
レイリーの光学解像度
二重層レジスト
交互積層法
光MEMS
化学増幅型フォトレジスト
原子間力顕微鏡
回転駆動静電アクチュエーター
圧電アクチュエータ
毛管凝縮
毛管数
毛管長
自己組織化単分子膜
表面プラズモン共鳴
表面張力振動
裏面アライメント
触針式段差計
超臨界成膜
超音波浮揚
近接場光
量子ドット
集束イオンビーム
静電アクチュエータ
静電吸着
静電容量型変位センサー
c21.txt
· 最終更新: 2021/09/23 18:48 by
mnm02
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