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マグネトロンスパッタリング

Magnetron sputtering

強力な磁石をターゲット材の背面に配置し、その磁場を利用してプラズマの電子密度を高めた空間を生成することで、効率的にスパッタリングによる薄膜を形成する真空蒸着法である。

マグネトロンスパッタリング.txt · 最終更新: 2024/03/12 18:50 by mnm03