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2022年度部門表彰者の声：優秀講演フェロー賞

静岡大学
山本 結貴

　

　この度は，日本機械学会IIP2022 情報・知能・精密機器部門（IIP部門）講演会において発表致しました「Development of a parasitic capacitance reduction process by forming embedded dielectric structures」に対し，日本機械学会若手優秀講演フェロー賞を頂き大変光栄に存じます．本研究を進めるにあたり，ご協力いただいた関係者の皆様に深く御礼申し上げます．

　受賞致しました研究は,トレンチ型埋め込み酸化膜を用いた寄生容量抑制とトレンチ型埋め込み酸化膜を用いた単層シリコンでのMEMS作製したものです.シリコンウエハに穴をあけ,シリコンと石英ガラス(ASF-1780)の粉を埋め込み,純水酸化で作成した非誘電体で隔離することによって実現させることができました.

　今回の受賞を励みにこれからも精進していく所存です．最後になりましたが，日本機械学会の益々の発展を祈願し，受賞の挨拶とさせて頂きます．

図1 トレンチ型埋め込み酸化膜

図2 埋め込み酸化膜作成

図3 単層シリコンデバイス応用例

Last Modified at 2023/5/23