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電子ビームを用いて半導体基板上にパターンを描画する方法である．このとき，基板上にレジストを塗布し，そこに電子を照射するが，分子量が低下（ポジ形)，または重合（ネガ形）し，その後の現像処理によって写真のようにパターンを形成（パターニング）する．この方式には，集束した細いビームを走査して描画する方式とマスクパターンを投影して一括露光描画する方式がある．また，本プロセスはマイクロマシンなど微小形状の製作に利用されている．
