目次
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半導体素子を製造するための装置．マスク制作に供されるマスクブランク装造装置，パターン形成装置，パターン検査・修正装置，ペリクル張付け・検査装置，ウェーハそのものを製造する単結晶成長装置，単結晶加工・検査装置，ウェーハ処理工程で使用される薄膜形成装置，酸化装置，ドーピング装置，アニール装置，レジスト処理装置，露光装置，エッチング装置，洗浄・乾燥装置，および組立て，検査のための装置の総称．広義には，クリーンルーム，純水装置，ガス供給装置などの工場設備を含めることもある．
