LSIは，二つ以上の回路素子（ダイオード，トランジスタ，抵抗，コンデンサなど）を一つのシリコン結晶の基板上または基板内に集積し，ある回路機能を持たせ，しかもすべての部品が，一つのシリコン結晶基板に作りこまれているモノリシック集積回路のうちの集積度が1000素子数/チップ以上のものを指す．近年では，100000素子数/チップ以上のLSIをVLSIあるいはULSIと呼んで区別することがある．LSIの効果は，回路機能が小型化できるので一つのチップを高機能化できること，一枚のウェーハに多くのLSIを作ることができるので量産効果によりコストを低下できることなどがあげられる．LSIはCMOS FETを主体として構成したMOSディジタル集積回路がほとんどで，これは，素子の微細化が容易であるため高集積化と高速化が可能であること，消費電力が小さいため発熱が押さえられることによる．製造方法は，シリコンウェーハを素材とし，設計から得られるフォトマスクを使って回路パターンをウェーハ上に作り込む．マスク上に描かれたパターンは露光転写された後エッチングによってウェーハ上のパターンとなる．不純物注入や薄膜形成とパターン形成を繰返すことにより，ウェーハ上にトランジスタや配線などの電子回路を形成する．