単結晶の半導体基板上に，その基板と結晶配位が同じように規則正しく整列した単結晶の薄膜を成長させる装置．基板と成長層の材料が同じ場合をホモエピタキシャル，基板と成長層の材料が異なる場合をヘテロエピタキシャル，基板結晶構造に幾何学的な規則性が存在する場合に，その表面に単結晶の薄膜を形成する方法をグラフォエピタキシャルという．エピタキシャル成長装置は，単結晶を成長させる雰囲気から，分子線エピタキシャル成長装置，気相エピタキシャル成長装置，液相エピタキシャル成長装置，固相エピタキシャル成長装置に分類される．