気相化学反応を利用した成膜技術．反応方法により熱CVD，プラズマCVD等がある．基板を設置した反応路に原料ガスとキャリアガスを導入し，熱やプラズマ等のエネルギーを与えて原料ガスを分解し成膜する．原料にガスを用いることにより，凹凸がある基板にも均質な膜を成膜できるという特徴がある．