蒸発させた物質を放電によって発生させた不活性ガスプラズマによってイオン化し，基板に照射，たい積しながら膜を形成する技術．このとき，適度なスパッタリングを起こしながら膜を作るので，密着性が高い．イオンめっきと称することもある．