放射光による反応ガスの分解促進，表面での吸着種の拡散促進の効果を利用することによって，より低温でかつ光照射領域のみに膜形成する選択性を持つ薄膜成長技術をいう．従来の薄膜形成プロセスが熱エネルギーを用いていたのに比べ，原子オーダで急しゅんな界面形成が可能になる点期待されている．