===== ALD===== ==== Atomic layer deposition==== {{tag>..c21}} 基板に1原子層ずつ堆積させる成膜技術でCVDの一種.基板を設置した反応路内に2種類以上の原料ガスを交互に導入,排気し,反応させて成膜する.それぞれの原料ガスが基板に吸着し,基板の表面が原料で埋められるとそれ以上の吸着は起きないため1原子層ずつ堆積させることができる. ~~NOCACHE~~