====== フォトリソグラフィー ======
==== photo lithography ====

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　リソグラフィーは，本来石版を用いて印刷することを意味する言葉である．フォトリソグラフィーは，写真製版技術を意味し，半導体製造工程では，微細な半導体回路のパターンをウェーハ表面に塗布したフォトレジストと呼ばれる感光剤に転写し，レジストパターンを形成する技術の総称．特に，転写するための光源に光を用いる場合をフォトリソグラフィーという．解像可能なパターンは，転写に使用する光源の波長に依存し，高圧水銀灯の特定波長，g線（436nm），h線（405nm），i線（356nm），エキシマレーザのXeCl（308nm），KrF（248nm）およびArF（193nm）などが使用される．半導体回路のパターンの転写にX線，電子線（電子ビーム），イオンビームを使用する場合は，それぞれX線リソグラフィー，電子ビームリソグラフィー，イオンビームリソグラフィーといい，フォトリソグラフィーとは区別することもある．フォトリソグラフィー技術とエッチング技術は，微細加工には不可欠の技術であり，近年では，マイクロマシンの加工にもこれらの技術が応用されている．


~~NOCACHE~~