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--- cvd [2025/02/10 13:47] – 作成 mnm08
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 {{tag>..c21}}
-気相化学反応を利用した成膜技術。反応方法により熱CVD、プラズマCVD等がある。基板を設置した反応路に原料ガスとキャリアガスを導入し、熱やプラズマ等のエネルギーを与えて原料ガスを分解し成膜する。原料にガスを用いることにより、凹凸がある基板にも均質な膜を成膜できるという特徴がある。
+気相化学反応を利用した成膜技術．反応方法により熱CVD，プラズマCVD等がある．基板を設置した反応路に原料ガスとキャリアガスを導入し，熱やプラズマ等のエネルギーを与えて原料ガスを分解し成膜する．原料にガスを用いることにより，凹凸がある基板にも均質な膜を成膜できるという特徴がある．
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cvd.txt · 最終更新: 2025/02/10 13:49 by mnm08